Target Sputtering Zirkonium Target Zr

Target Sputtering Zirkonium Target Zr

Target sputtering zirkonium memiliki sifat yang sama dengan bahan bakunya. Massa jenisnya 6,49g/cc, titik leleh 1852 derajat , dan tekanan uapnya 10 -4 Torr pada 1987 derajat . Ini adalah logam transisi yang kuat, berwarna putih pucat, sangat mirip dengan hafnium dan pada tingkat lebih rendah mirip dengan titanium. Zirkonium terutama digunakan sebagai bahan tahan api dan opacifier, namun sejumlah kecil zirkonium digunakan sebagai bahan paduan karena ketahanan korosinya yang kuat.
Kirim permintaan
Deskripsi

 

Target zirkonium adalah bahan target yang terbuat dari logam zirkonium yang biasa digunakan dalam sputtering magnetron dan proses pengendapan film tipis lainnya. Target zirkonium memiliki aplikasi unik dalam ilmu material dan manufaktur industri, khususnya dalam teknologi pelapisan dan manufaktur film tipis.

 

fitur target zirkonium


1. Titik leleh tinggi: titik leleh zirkonium adalah 1855 derajat, sehingga target zirkonium memiliki stabilitas termal yang baik dalam kondisi suhu tinggi.


2. Ketahanan korosi: zirkonium memiliki ketahanan korosi yang kuat terhadap berbagai macam asam dan basa, terutama di lingkungan seperti asam klorida dan asam sulfat, yang menunjukkan ketahanan korosi yang tinggi.


3. Penampang Penyerapan Neutron Termal Rendah: Penampang serapan neutron termal rendah dari Zirkonium menjadikannya bahan penting dalam industri nuklir untuk aplikasi dalam reaktor nuklir.


4. Sifat Mekanik yang Baik: Zirkonium memiliki keuletan dan plastisitas yang baik, serta mampu mempertahankan kekuatan dan ketangguhannya di lingkungan bersuhu tinggi.


5. Biokompatibilitas: zirkonium kompatibel dengan jaringan manusia dan umumnya digunakan dalam bidang biomedis seperti implan medis.

 

Zirconium Target

 

aplikasi target zirkonium


1. Manufaktur Semikonduktor: Target zirkonium sering digunakan dalam industri semikonduktor untuk proses sputtering untuk membentuk film tipis zirkonium untuk digunakan pada komponen elektronik dan perangkat mikroelektronik guna meningkatkan kinerja dan stabilitas komponen.


2. Teknologi pelapisan: Target zirkonium banyak digunakan dalam pembuatan pelapis keras, terutama pelapis tahan aus dan korosi. Lapisan tipis zirkonium dapat diaplikasikan pada permukaan perkakas, cetakan, dan peralatan tahan korosi untuk meningkatkan masa pakai dan kinerjanya.


3. Pelapisan Optik: Target zirkonium juga digunakan dalam teknologi pelapisan optik untuk memproduksi film optik dengan reflektifitas tinggi dan tahan aus, yang diterapkan pada instrumen optik presisi, lensa optik, dan layar.


4. INDUSTRI NUKLIR: Karena rendahnya penyerapan neutron oleh zirkonium, target zirkonium digunakan dalam pembuatan bahan selubung bahan bakar di reaktor nuklir untuk memastikan pengoperasian bahan bakar nuklir yang aman.


5. Bahan biomedis: Target zirkonium digunakan dalam bidang medis untuk pembuatan bahan pelapis biokompatibel, terutama untuk perawatan permukaan sendi buatan dan implan gigi, untuk mengurangi reaksi penolakan antara implan dan tubuh manusia.

 

Target zirkonium banyak digunakan dalam bidang elektronik, optik, energi nuklir, dan biomedis karena sifatnya yang bersuhu tinggi, tahan korosi, dan menyerap neutron rendah, dan sangat unggul dalam menuntut proses pengendapan film tipis dan teknologi pelapisan.
 

Zirconium Target

 

Hubungi kami

 

ZHENAN INTERNASIONAL CO., LTD

 

Beritahu: +86-19937207162 (WhatsApp)

 

Email: hester@zaferroalloy.com

 

Situs web: www.metal-alloy.com

 

Alamat: Gedung Kantor Huafu, Anyang, provinsi Henan, Cina.

 

Selamat datang di perusahaan atau pabrik kami untuk berkunjung!

 

Tag populer: zirkonium sputtering target zr target, Cina zirconium sputtering target zr target produsen, pemasok, pabrik