Deskripsi Produk
Dalam kondisi terpencil, bubuk silikon dapat sepenuhnya dinyalakan dalam proses SHS untuk menghasilkansilikon nitrida, dan produk memiliki kandungan nitrogen yang tinggi dan kandungan oksigen rendah, tetapi ini adalah fase. Dalam reaksi asap silikon, jumlah si _3 n _4} yang tepat harus ditambahkan; Kecepatan propagasi dari gelombang pembakaran SHS silikon meningkat dengan meningkatnya tekanan nitrogen dan penurunan kepadatan pengisian reaktan, tetapi tidak tergantung pada komposisi reaktan dan diameter sampel. Suhu gelombang pembakaran meningkat dengan meningkatnya tekanan nitrogen dan peningkatan diameter sampel, yang tidak tergantung pada komposisi reaktan dan kepadatan pengisian.
Parameter Produk
| Nilai | N | Si | CA Min | O menit | Al min | C | Fe min |
| Si3n 485-99 | 32-39 | 55-60 | 0.25 | 1.5 | 0.25 | 0.3 | 0.25 |
Gambar kerjasama produk

1.Silikon nitridaFilm -film disiapkan dengan menggunakan teknologi uap kimia plasma (PECVD) di bawah kondisi deposisi yang berbeda (kisaran suhu substrat 20 ~ 180 derajat dan daya RF 10 ~ 30W), dan efek kondisi pengendapan pada sifat dan sifat tahan air dari film silikon nitrida dipelajari. Hasil eksperimen menunjukkan bahwa dengan peningkatan suhu substrat, kepadatan, indeks bias dan rasio SI/N dari film silikon nitrida meningkat secara bersamaan, sedangkan laju pengendapan dan konten H menurun secara bersamaan. Dengan meningkatnya daya RF, laju pengendapan, kepadatan, indeks bias dan rasio SI/N dari film silikon nitrida meningkat secara bersamaan, sedangkan konten H berkurang secara bersamaan. Eksperimen permeasi uap air menunjukkan bahwa bahkan jika suhu substrat dikurangi hingga 50 derajat, film silikon nitrida yang diendapkan masih memiliki kinerja tahan air yang baik. Hasil eksperimen menunjukkan bahwa film nitrida silikon suhu rendah dapat secara efektif diterapkan pada pengemasan perangkat pemancar cahaya organik (OLED).
Tag populer: Bahan tingkat tinggi silikon nitrida, Cina produsen silikon nitrida tingkat tinggi, pemasok, pabrik

