Pelat Paduan Ta-Mo Target Sputtering Tantalum Molibdenum untuk Pelapisan
Metal Tantalum Menargetkan Kemurnian 99,95% Tantalum Ta Planar Target Rotary target untuk lapisan pvd menyesuaikan ukuran
Kemurnian Tinggi 99,995% Molibdenum Tantalum Tungsten Titanium Paladium Emas Perak ZhenAn Pasokan Target Sputtering Logam
Apa target tantalum?
Kemurnian: Lebih besar dari atau sama dengan 99,95%, 99,99%
Spesifikasi: Diproses sesuai kebutuhan pelanggan
Pengolahan: pengerolan dingin, pengawetan, pencukuran.
Kemurnian: Lebih besar dari atau sama dengan 99,95%, 99,99%
Keadaan: keras, semi-keras, anil
Kondisi teknis: sesuai dengan GB3269-83 (pelat, strip dan foil paduan tantalum dan tantalum),
GB/T3628-1995 (foil paduan tantalum dan tantalum),
ASTM B708-92 (pelat sedang dan tebal paduan tantalum dan tantalum, pelat tipis, strip dan foil)